氟化鋇能很好應用于光譜組件。 氟化鋇通常適用于無源IR波段（8~14μm）的應用，通常用作熱成像的窗片。 對于相同厚度，比氟化鈣的透射范圍進一步延伸到IR中大約1mm。 主要用于IR應用，并注意到具有IR拋光的視窗可能在由低純度BaF 2晶體制成的VUV中具有受限的透射性能。

氟化鋇通過真空Stockbarger技術生長。 與CaF2不同，BaF2不以天然狀態存在，并且所有材料必須化學合成，使得BaF2生產相對昂貴。氟化鋇容易裂開，對熱沖擊非常敏感。它拋光好可以蝕刻。不是所有的晶體都是由高等級的化學品制造的; 對于IR級光學器件，較低規格是足夠的并且降低了成本，然而在UV和VUV中的透射受到限制。高純度的氟化鋇VUV材料可以被認為是快閃爍級。